Sự khác biệt giữa kính hiển vi điện tử và kính hiển vi luyện kim
Kính hiển vi điện tử đầu tiên trên thế giới được chế tạo tại Berlin vào năm 1931 bởi M. Knoil và E. Rusk bằng cách điều chỉnh một máy hiện sóng ống bóng tốc độ cao có thể tháo rời với ba thấu kính, một kính hiển vi điện tử truyền qua sử dụng nguồn điện tử cathode lạnh và vào năm 1934 M. Knoil và E. Rusk đã tăng độ phân giải lên 500 Å. Kính hiển vi điện tử quét (SEM), viết tắt SEM, là một hệ thống phức tạp tập hợp các kỹ thuật quang điện tử, kỹ thuật chân không và cấu trúc cơ học tinh tế.
Kính hiển vi điện tử quét (Scanning ElectronMicroscope), viết tắt là SEM, là một hệ thống phức tạp; Công nghệ chân không quang điện tử ngưng tụ, kết cấu cơ khí tinh xảo và công nghệ điều khiển máy tính hiện đại. SEM là hiệu ứng điện áp cao được tăng tốc của súng điện tử do electron phát ra thông qua sự hội tụ của thấu kính điện từ nhiều giai đoạn thành một chùm electron nhỏ. Quét bề mặt mẫu vật, kích thích nhiều loại thông tin, thông qua việc tiếp nhận thông tin này, khuếch đại và hiển thị hình ảnh, để phân tích bề mặt mẫu vật. Sự tương tác của các electron tới với mẫu vật tạo ra các loại thông tin như trong Hình 1. Sự phân bố cường độ hai chiều của thông tin này thay đổi theo đặc điểm của bề mặt mẫu vật (các đặc điểm này là hình thái bề mặt, thành phần, hướng tinh thể, tính chất điện từ). , v.v.), là một loạt các máy dò để thu thập thông tin theo thứ tự, tỷ lệ thông tin được chuyển đổi thành tín hiệu video, sau đó được truyền đến quá trình quét đồng thời ống hình và điều chế độ sáng của nó, bạn có thể nhận được phản hồi lên bề mặt của bản đồ quét mẫu vật. Nếu tín hiệu mà máy dò nhận được được số hóa và chuyển đổi thành tín hiệu số, nó có thể được máy tính xử lý và lưu trữ thêm. Kính hiển vi điện tử quét được thiết kế chủ yếu để quan sát các mẫu khối dày có chênh lệch chiều cao lớn và không đồng đều, do đó được thiết kế để làm nổi bật hiệu ứng độ sâu trường ảnh và thường được sử dụng để phân tích các vết nứt cũng như các bề mặt tự nhiên không có được xử lý nhân tạo.
Kính hiển vi điện tử và kính hiển vi luyện kim
Đầu tiên, nguồn sáng thì khác: kính hiển vi luyện kim sử dụng ánh sáng khả kiến làm nguồn sáng, kính hiển vi điện tử quét sử dụng chùm tia điện tử làm nguồn sáng để chụp ảnh.
Thứ hai, nguyên lý khác: kính hiển vi luyện kim sử dụng nguyên lý hình ảnh quang học hình học để chụp ảnh, kính hiển vi điện tử quét sử dụng chùm tia điện tử năng lượng cao bắn phá bề mặt mẫu, kích thích nhiều loại tín hiệu vật lý trên bề mặt mẫu, sau đó sử dụng của các bộ dò tín hiệu khác nhau để chấp nhận các tín hiệu vật lý được chuyển đổi thành thông tin hình ảnh.
Thứ ba, độ phân giải là khác nhau: kính hiển vi luyện kim do sự giao thoa và nhiễu xạ ánh sáng nên độ phân giải chỉ có thể bị giới hạn ở mức 0.2-0.5um ở giữa. Kính hiển vi điện tử quét vì sử dụng chùm tia điện tử làm nguồn sáng nên độ phân giải có thể đạt trong khoảng 1-3nm, do đó việc quan sát mô của kính hiển vi luyện kim thuộc về phân tích cấp độ micron, quan sát mô của kính hiển vi điện tử quét thuộc về cấp độ nanomet Phân tích.
Thứ tư, độ sâu trường ảnh là khác nhau: độ sâu trường ảnh của kính hiển vi luyện kim nói chung nằm trong khoảng 2-3um, do đó độ mịn bề mặt của mẫu có yêu cầu rất cao nên quá trình lấy mẫu tương đối phức tạp. Trong khi kính hiển vi điện tử quét có độ sâu trường ảnh lớn, trường nhìn rộng, hình ảnh giàu cảm giác ba chiều, có thể quan sát trực tiếp nhiều loại cấu trúc vi mô bề mặt không đồng đều của mẫu vật.
