Cấu trúc hệ thống kính hiển vi lực nguyên tử (AFM)
1. Phần phát hiện lực:
Trong hệ thống kính hiển vi lực nguyên tử (AFM), lực cần phát hiện là lực van der Waals giữa các nguyên tử. Vì vậy, trong hệ thống này, một công cụ đúc hẫng được sử dụng để phát hiện sự thay đổi lực giữa các nguyên tử. Công cụ đúc hẫng siêu nhỏ này có các thông số kỹ thuật nhất định, chẳng hạn như chiều dài, chiều rộng, hệ số đàn hồi và hình dạng đầu kim, và việc lựa chọn các thông số kỹ thuật này dựa trên đặc điểm của mẫu và các chế độ vận hành khác nhau và các loại đầu dò khác nhau được chọn.
2 Phần phát hiện vị trí:
Trong hệ thống kính hiển vi lực nguyên tử (AFM), khi có sự tương tác giữa đầu kim và mẫu, công xôn đúc hẫng sẽ dao động. Do đó, khi tia laser được chiếu vào phần cuối của công xôn, vị trí của ánh sáng phản xạ cũng sẽ thay đổi do sự xoay của công xôn, dẫn đến tạo ra độ lệch. Trong toàn bộ hệ thống, máy dò vị trí điểm laser được sử dụng để ghi lại độ lệch và chuyển đổi thành tín hiệu điện để xử lý tín hiệu bởi bộ điều khiển SPM.
3 Hệ thống phản hồi:
Trong hệ thống kính hiển vi lực nguyên tử (AFM), sau khi tín hiệu được máy dò laser thu vào, nó được sử dụng làm tín hiệu phản hồi trong hệ thống phản hồi làm tín hiệu điều chỉnh bên trong và điều khiển máy quét thường làm bằng ống gốm áp điện chuyển động. một cách thích hợp để duy trì lực thích hợp giữa mẫu và đầu kim.
Kính hiển vi lực nguyên tử (AFM) kết hợp ba phần trên để thể hiện các đặc điểm bề mặt của mẫu: trong hệ thống AFM, một công xôn nhỏ được sử dụng để cảm nhận sự tương tác giữa đầu kim và mẫu. Lực này sẽ làm cho công xôn lắc lư, sau đó dùng tia laser để chiếu vào phần cuối của công xôn. Khi hình thành xích đu, vị trí của ánh sáng phản xạ sẽ thay đổi, gây ra hiện tượng lệch. Lúc này, máy dò laser sẽ ghi lại độ lệch này đồng thời cũng cung cấp tín hiệu cho hệ thống phản hồi tại thời điểm này để tạo điều kiện điều chỉnh hệ thống phù hợp. Cuối cùng, các đặc tính bề mặt của mẫu sẽ được trình bày dưới dạng hình ảnh.
